Počet záznamov: 1
Fundamental plasma processes in the next generation of combined PIII-HiPIMS implantation and deposition technique
CREPC201611 CREPC201701 CREPC201702 CREPC201703 CREPC201706 Údaje o názve Fundamental plasma processes in the next generation of combined PIII-HiPIMS implantation and deposition technique / aut. Lucia Bónová, Jana Bohovičová, Juraj Halanda, Jozef Ivan, Marcel Meško Záhlavie-meno Bónová, Lucia, 1982- (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií Ďal.zodpovednosť Bohovičová, Jana, 1986- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií Halanda, Juraj, 1980- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií Ivan, Jozef, (Autor) Meško, Marcel, 1977- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií In International scientific conference on advances in mechanical engineering / International scientific conference on advances mechanical engineering.. -- Debrecen : University of Debrecen, 2016. -- ISBN 978-963-473-944-9. -- online, s. 57-63 Predmet.heslá magnetron sputtering drift velocity Jazyk dok. angličtina Druh dok. RZB - článok zo zborníka Kategória BEE - 13/Odborné práce v zahraničných zborníkoch (konferenčných aj nekonferenčných); 12/(len nerecenzované) Kategória od 2022 O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka Rok 2016 článok
Počet záznamov: 1