Počet záznamov: 1  

Fundamental plasma processes in the next generation of combined PIII-HiPIMS implantation and deposition technique

  1. CREPC201611 CREPC201701 CREPC201702 CREPC201703 CREPC201706
    Údaje o názveFundamental plasma processes in the next generation of combined PIII-HiPIMS implantation and deposition technique / aut. Lucia Bónová, Jana Bohovičová, Juraj Halanda, Jozef Ivan, Marcel Meško
    Záhlavie-meno Bónová, Lucia, 1982- (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Ďal.zodpovednosť Bohovičová, Jana, 1986- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Halanda, Juraj, 1980- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Ivan, Jozef, (Autor)
    Meško, Marcel, 1977- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    In International scientific conference on advances in mechanical engineering / International scientific conference on advances mechanical engineering.. -- Debrecen : University of Debrecen, 2016. -- ISBN 978-963-473-944-9. -- online, s. 57-63
    Predmet.heslá magnetron sputtering
    drift velocity
    Jazyk dok.angličtina
    Druh dok.RZB - článok zo zborníka
    KategóriaBEE - 13/Odborné práce v zahraničných zborníkoch (konferenčných aj nekonferenčných); 12/(len nerecenzované)
    Kategória od 2022O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka
    Rok2016
    článok

    článok

Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.