Počet záznamov: 1
Optimization of SiON/SiOx structures fabrication process for optical waveguides
Údaje o názve Optimization of SiON/SiOx structures fabrication process for optical waveguides / aut. Ľuboš Podlucký, Marian Vojs, Jozef Chovanec, Vlastimil Řeháček, Jaroslav Kováč, František Uherek Záhlavie-meno Podlucký, Ľuboš, 1995- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Ďal.zodpovednosť Vojs, Marian, 1979- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Chovan, Jozef, 1974- (Autor) Řeháček, Vlastimil, 1957- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Uherek, František, 1954- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky In Radioelektronika 2020 [206 s.] / International Conference Radioelektronika 2020. -- Piscataway : IEEE, 2020. -- ISBN 978-1-7281-6468-7. -- S. 186-190 Predmet.heslá waveguide IMWP ICP/RIE PECVD silicon oxynitride Jazyk dok. angličtina Druh dok. RZB - článok zo zborníka Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Kategória od 2022 V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka V databázach WOS: 000610803200037
SCOPUS: 2-s2.0-85085739513Rok 2020 
článok
Počet záznamov: 1