Influence of boron concentration in diamond electrodes on electrodeposition of cupric oxide / aut. Miroslav Behúl, Marian Vojs, Marián Marton, Pavol Michniak, Mario Kurniawan, Ralf Peipmann, Codruta Aurelia Vlaic, Andreas Bund, Robert Redhammer
Behúl Miroslav ; 033000  Vojs Marian ; 033000 Marton Marián ; 033000 Michniak Pavol ; 033000 Kurniawan Mario Peipmann Ralf Vlaic Codruta Aurelia Bund Andreas Redhammer Robert ; 033000
ADEPT 2017 : . S. 72-75
boron doped diamond cupric oxide chemical vapour deposition
článok zo zborníka
AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka