Košík

  Odznačiť vybrané:   0
  1. Optimization of SiON/SiOx structures fabrication process for optical waveguides / aut. Ľuboš Podlucký, Marian Vojs, Jozef Chovanec, Vlastimil Řeháček, Jaroslav Kováč, František Uherek
    Podlucký Ľuboš ; 033000  Vojs Marian ; 033000 Chovan Jozef Řeháček Vlastimil ; 033000 Kováč Jaroslav jr. ; 033000 Uherek František ; 033000
    Radioelektronika 2020 : . S. 186-190
    waveguide IMWP ICP/RIE PECVD silicon oxynitride
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok


  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.