Výsledky vyhľadávania

Nájdených záznamov: 2  
Váš dotaz: Autor-kód záznamu = "^stu_us_auth 0046051^"
  1. Silicon Dioxide Deposited Using Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition for Improved Adhesion and Water Intrusion Resistance for Lightweight Manufacturing
    Jeckell Zachary  Patel Dhruval Herschberg Andrew Choi Tag Barlaz David Bónová Lucia ; 067000 Shchelkanov Ivan Jurczyk Brian Ruzic David
    Surfaces and Interfaces . Vol. 23, (2021), s. 1-8
    atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition silicon oxide lap shear strength barrier coating
    https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2468023021000663
    článok z periodika
    ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
    V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    článok

    článok

  2. Interference-enhanced Raman scattering in SiO2/Si structures related to reflectance / aut. Ľubomír Vančo, Mário Kotlár, Magdaléna Kadlečíková, Viliam Vretenár, Marian Vojs, Jaroslav jr Kováč
    Vančo Ľubomír ; 902640  Kotlár Mário ; 902640 Kadlečíková Magdaléna ; 033000 Vretenár Viliam ; 902640 Vojs Marian ; 033000 Kováč Jaroslav jr. ; 033000
    Journal of raman spectroscopy . Vol. 50, iss. 10 (2019), s. 1502-1509
    enhanced Raman scattering interference reflectance silicon oxide thin films
    článok z periodika
    ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
    V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    článok

    článok



  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.