Výsledky vyhľadávania
- Silicon Dioxide Deposited Using Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition for Improved Adhesion and Water Intrusion Resistance for Lightweight Manufacturing
Jeckell Zachary Patel Dhruval Herschberg Andrew Choi Tag Barlaz David Bónová Lucia ; 067000 Shchelkanov Ivan Jurczyk Brian Ruzic David
Surfaces and Interfaces . Vol. 23, (2021), s. 1-8
atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition silicon oxide lap shear strength barrier coating
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2468023021000663
článok z periodika
ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu - Interference-enhanced Raman scattering in SiO2/Si structures related to reflectance / aut. Ľubomír Vančo, Mário Kotlár, Magdaléna Kadlečíková, Viliam Vretenár, Marian Vojs, Jaroslav jr Kováč
Vančo Ľubomír ; 902640 Kotlár Mário ; 902640 Kadlečíková Magdaléna ; 033000 Vretenár Viliam ; 902640 Vojs Marian ; 033000 Kováč Jaroslav jr. ; 033000
Journal of raman spectroscopy . Vol. 50, iss. 10 (2019), s. 1502-1509
enhanced Raman scattering interference reflectance silicon oxide thin films
článok z periodika
ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu