Výsledky vyhľadávania

Nájdených záznamov: 30  
Váš dotaz: Autor-kód záznamu = "^stu_us_auth stu54085^"
  1. Smart Print UV System: A High–Resolution Maskless Lithography Technology for Cost-Effective and Rapid Fabrication / aut. Martin Predanocy, Jaroslava Škriniarová, Robert Andok, Pavol Nemec
    Predanocy Martin  Škriniarová Jaroslava Andok Robert Nemec Pavol ; 033000
    APCOM 2023 : . Art. no. 080001 [6] s.
    https://pubs.aip.org/aip/acp/article/3054/1/080001/3022897/Smart-print-UV-system-A-high-resolution-maskless
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  2. Force/displacement MEMS based on electromagnetic field principle for tiny insects monitoring / aut. Jaroslav Hricko, René Harťanský, Robert Andok, Pavol Nemec, Hung-Yin Tsai
    Hricko Jaroslav  Harťanský René ; 034000 Andok Robert Nemec Pavol Tsai Hung-Yin
    MME 2019 : . Art. no. 012010 [5] s.
    https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1742-6596/1837/1/012010
    článok zo zborníka
    AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  3. TiO2 sensoric structures with controlled extension of their active area by electron-beam lithography and reactive ion etching techniques / aut. Pavol Nemec, Ivan Hotový, Vlastimil Řeháček, Robert Andok
    Nemec Pavol ; 033000  Hotový Ivan ; 033000 Řeháček Vlastimil ; 033000 Andok Robert
    APCOM 2021 : . Art. no. 060003 [6] s.
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  4. Study of proximity effects in HSQ e-beam resist on TiO2 thin film / aut. Ivan Kostič, K Vutová, Anna Benčurová, Pavol Nemec, Robert Andok
    Kostič Ivan  Vutová K. Benčurová Anna Nemec Pavol ; 033000 Andok Robert
    ASDAM 2020 : . S. 65-70
    https://doi.org/10.1109/ASDAM50306.2020.9393837
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  5. Comparison of TiO2 active area of gas sensors enhanced by annealing and RIE etching / aut. Pavol Nemec, Ivan Hotový, Robert Andok, Ivan Kostič
    Nemec Pavol ; 033000  Hotový Ivan ; 033000 Andok Robert Kostič Ivan
    APCOM 2019 : . Art. no. 020031 [4] s.
    https://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/1.5119484?class=pdf
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  6. Substrate influence on the optimization of the exposure dose for the HSQ XR 1541 resist / aut. Jaroslava Škriniarová, Robert Andok, Pavol Nemec, J Baumgartner
    Škriniarová Jaroslava ; 033000  Andok Robert Nemec Pavol ; 033000 Baumgartner J.
    ADEPT 2019 : . S. 219-222
    HSQ XR 1541 resist E-Beam Lithography GaAs substrate Si substrate
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  7. Effect of sulfur concentration on structural properties and conversion efficiency of chemically prepared Cu2ZnSnS4 thin-films solar cell / aut. A Shamardin, D Kurbatov, M Kolesnyk, P Nemec, Jaroslav jr Kováč
    Shamardin A.  Kurbatov D. Kolesnyk M. Nemec P. Kováč Jaroslav jr. ; 033000
    ADEPT 2019 : . S. 95-98
    Cu2ZnSnS4 spray pyrolysis Sulfur concentration thin film solar cell
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  8. Increased sensitivity of a gas sensor by controlled extension of TiO2 active area / aut. Pavol Nemec, Ivan Hotový, Robert Andok, Ivan Kostič
    Nemec Pavol ; 033000  Hotový Ivan ; 033000 Andok Robert Kostič Ivan
    APCOM 2018 : . Art. no. 020032 [4] s.
    https://aip.scitation.org/doi/pdf/10.1063/1.5048884
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  9. The effect of process parameters and annealing on the properties of Ti/Pt films for miniature temperature sensors / aut. Ivan Hotový, Štefan Haščík, Martin Predanocy, Miroslav Mikolášek, Vlastimil Řeháček, Ivan Kostič, Pavol Nemec, Anna Benčurová, Diana Rossberg, Lothar Spiess
    Hotový Ivan ; 033000  Haščík Štefan Predanocy Martin ; 033000 Mikolášek Miroslav ; 033000 Řeháček Vlastimil ; 033000 Kostič Ivan Nemec Pavol Benčurová Anna Rossberg Diana Spiess Lothar
    ASDAM 2016 : . S. 85-88
    http://ieeexplore.ieee.org/stamp/stamp.jsp?arnumber=7805901
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  10. Effects of HSQ e–beam resist processing on the fabrication of ICP–RIE etched TiO2 nanostructures / aut. Ivan Hotový, Ivan Kostič, Martin Predanocy, Pavol Nemec, Vlastimil Řeháček
    Hotový Ivan ; 033000  Kostič Ivan Predanocy Martin ; 033000 Nemec Pavol Řeháček Vlastimil ; 033000
    Journal of Electrical Engineering : . Vol. 67, No. 6 (2016), s. 454-458
    HSQ e-beam resist ICP-RIE etching TiO2 dota array
    https://www.degruyter.com/downloadpdf/j/jee.2016.67.issue-6/jee-2016-0067/jee-2016-0067.pdf
    článok z periodika
    ADN - 13/NOVÉ Vedecké práce v domácich časopisoch registrovaných v databázach Web of Science alebo SCOPUS
    V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    článok

    článok


  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.