Basket

  Untick selected:   0

  1.  

    Opitmization of mask material for deep reactive ion etching of GaAs structures / aut. Tibor Izsák, Eva Kováčová, Gabriel Vanko, Štefan Haščík, Johann Zehetner, Marian Vojs, Bohumír Zaťko
    Izsák Tibor  Kováčová Eva Vanko Gabriel Haščík Štefan Zehetner Johann Vojs Marian ; 033000 Zaťko Bohumír
    ADEPT 2022 : . S. 169-172
    ICP GaAs SiO2 deep reactive ion etching
    článok zo zborníka
    AFD - Reports at home scientific conferences
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    article

    article

  2.  

    Využitie BIM pri výpočte energetickej náročnosti budovy v koncepčnej fáze návrhu
    Kudiváni Lucia ; 010290  Petráš Dušan ; 010290
    TZB Haustechnik : . Roč. 28, č. 1 (2020), s. 20-22
    BIM energetická náročnosť
    článok z periodika
    ADF - Scientific titles in home not carented magazines and other year-books
    V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    article

    article


  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.

Accept allSettingsReject all