Influence of temperature on resistive switching mechanism in HfO2-based atomic layer deposition grown metal-insulator-metal structures / aut. Peter Benko, Miroslav Mikolášek, Peter Jančovič, Ladislav Harmatha, Karol Fröhlich
Benko Peter ; 033000  Mikolášek Miroslav ; 033000 Jančovič Peter ; 033000 Harmatha Ladislav ; 033000 Fröhlich Karol
ADEPT 2015 : . S. 169-172
článok zo zborníka
AFD - Reports at home scientific conferences
V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka