Number of the records: 1
Optimization of SiON/SiOx structures fabrication process for optical waveguides
Title statement Optimization of SiON/SiOx structures fabrication process for optical waveguides / aut. Ľuboš Podlucký, Marian Vojs, Jozef Chovanec, Vlastimil Řeháček, Jaroslav Kováč, František Uherek Main entry-name Podlucký, Ľuboš, 1995- (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Another responsib. Vojs, Marian, 1979- Z2 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Chovan, Jozef, 1974- (Author) Řeháček, Vlastimil, 1957- Z2 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Uherek, František, 1954- Z1 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky In Radioelektronika 2020 [206 s.] / International Conference Radioelektronika 2020. -- Piscataway : IEEE, 2020. -- ISBN 978-1-7281-6468-7. -- S. 186-190 Subj. Headings waveguide IMWP ICP/RIE PECVD silicon oxynitride Language English Document kind RZB - článok zo zborníka Category AFD - Reports at home scientific conferences Category (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka In databases WOS: 000610803200037
SCOPUS: 2-s2.0-85085739513Year 2020 
article
Number of the records: 1