Number of the records: 1

Zr and Mo thin films with reduced residual impurities’ uptake under highvacuum conditions at room temperature

Title statement	Zr and Mo thin films with reduced residual impurities’ uptake under highvacuum conditions at room temperature / aut. Marcel Meško, Jana Bohovičová, Frans Munnik, Jörg Grenzer, René Hübner, Ľubomír Čaplovič, Mária Čaplovičová, Ľubomír Vančo, Viliam Vretenár, Matthias Krause
Main entry-name	Meško, Marcel, 1977- (Author) - MTF Ústav materiálov
Another responsib.	Bohovičová, Jana, 1986- Z2 (Author) - MTF Ústav materiálov
	Munnik, Frans (Author)
	Grenzer, Jörg (Author)
	Hübner, René (Author)
	Čaplovič, Ľubomír, 1955- Z1 (Author) - MTF Ústav materiálov
	Čaplovičová, Mária, 1957- Z2 (Author) - Centrum STU pre nanodiagnostiku
	Vančo, Ľubomír, 1983- Z2 (Author) - Centrum STU pre nanodiagnostiku
	Vretenár, Viliam, 1976- Z2 (Author) - Centrum STU pre nanodiagnostiku
	Krause, Matthias (Author)
Note	rok vykazovania by bol 2018, ale už je neskoro!!!
In	16th International Conference on Plasma Surface Engineering [478 s.]. -- 2018. -- S. 1
Subj. Headings	refractory metallic thin films
	HiPIMS
	residual impurity
Language	English
Document kind	RZB - článok zo zborníka
Category	BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...)
Category (from 2022)	O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka

article

citace PRO

Number of the records: 1