Fabrication of SiON photonic waveguides and analysis of ICP/RIE etch rates

Number of the records: 1

Title statement	Fabrication of SiON photonic waveguides and analysis of ICP/RIE etch rates / aut. Michal Hausner, Ľuboš Podlucký, Soňa Kováčová, Jaroslav jr Kováč
Main entry-name	Hausner, Michal, 1993- (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
Another responsib.	Podlucký, Ľuboš, 1995- Z2 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Kováčová, Soňa, 1981- Z2 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
In	ADEPT 2022 [274 s.] / Feiler, Martin. -- Žilina : Vydavateľstvo EDIS, 2022. -- ISBN 978-80-554-1884-1. -- S. 51-54
Subj. Headings	optical waveguide
	silicon oxynitride
	SEM
	AFM
	Surface profilometer
Language	English
Document kind	RZB - článok zo zborníka
Category	AFD - Reports at home scientific conferences
Category (from 2022)	V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
Type of document	príspevok z podujatia
Year	2022

article

citace PRO

Number of the records: 1