- Effect of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary …
Number of the records: 1  

Effect of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides for Semiconductor Applications : A ToF-ERDA Characterization Study

  1. Title statementEffect of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides for Semiconductor Applications : A ToF-ERDA Characterization Study / aut. Filip Ferenčík, Jozef Dobrovodský, Zoltán Száraz, Pavol Noga
    Main entry-name Ferenčík, Filip, 1996- (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Another responsib. Dobrovodský, Jozef, 1955- Z2 (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Száraz, Zoltán, 1981- Z2 (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Noga, Pavol, 1982- Z2 (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    In JVC - 19 [95 s.] / Krstulovič, Nikša. -- Zagreb, Croatia : Croatian Vacuum Society, 2024. -- ISBN 978-953-98154-5-3. -- S. 69
    LanguageEnglish
    URLhttps://jvc19.org/wp-content/uploads/files/Book_of_Abstracts_JVC-19_final.pdf
    Document kindRZB - článok zo zborníka
    CategoryBFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...)
    Category (from 2022)O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka
    Type of documentabstrakt z podujatia
    Year2024
    article

    article

Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.