Number of the records: 1
Effect of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides for Semiconductor Applications : A ToF-ERDA Characterization Study
Title statement Effect of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides for Semiconductor Applications : A ToF-ERDA Characterization Study / aut. Filip Ferenčík, Jozef Dobrovodský, Zoltán Száraz, Pavol Noga Main entry-name Ferenčík, Filip, 1996- (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií Another responsib. Dobrovodský, Jozef, 1955- Z2 (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií Száraz, Zoltán, 1981- Z2 (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií Noga, Pavol, 1982- Z2 (Author) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií In JVC - 19 [95 s.] / Krstulovič, Nikša. -- Zagreb, Croatia : Croatian Vacuum Society, 2024. -- ISBN 978-953-98154-5-3. -- S. 69 Language English URL https://jvc19.org/wp-content/uploads/files/Book_of_Abstracts_JVC-19_final.pdf Document kind RZB - článok zo zborníka Category BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...) Category (from 2022) O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka Type of document abstrakt z podujatia Year 2024 
article
Number of the records: 1