- Heteroepitaxial growth of gallium oxide on silicon using liquid-injec…
Number of the records: 1  

Heteroepitaxial growth of gallium oxide on silicon using liquid-injection MOCVD

  1. Title statementHeteroepitaxial growth of gallium oxide on silicon using liquid-injection MOCVD / aut. Miriam Krettová, Kristína Hušeková, M Wosko, Edmund Dobročka, Zdenko Zápražný, Iryna Kozak, Hemendra Chouhan, Fridrich Egyenes, Ondrej Pohorelec, Milan Ťapajna, R Paszkiewicz, Filip Gucmann
    Main entry-name Krettová, Miriam, 1997- (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Another responsib. Hušeková, Kristína (Author)
    Wosko, M. (Author)
    Dobročka, Edmund, 1955- Z5 (Author)
    Zápražný, Zdenko, 1980- (Author)
    Kozak, Iryna (Author)
    Chouhan, Hemendra, 1992- Z3 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Egyenes, Fridrich (Author)
    Pohorelec, Ondrej, 1995- (Author)
    Ťapajna, Milan, 1977- (Author)
    Paszkiewicz, R. (Author)
    Gucmann, Filip, 1987- (Author)
    In ADEPT 2025 [257 s.] / International conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies (ADEPT 2025). -- Žilina : Vydavateľstvo EDIS, 2025. -- ISBN 978-80-554-2208-4. -- S. 111-114
    Subj. Headings Ga2O3
    MOCVD
    AlN
    Si
    heteroepitaxy
    LanguageEnglish
    Document kindRZB - článok zo zborníka
    CategoryAFD - Reports at home scientific conferences
    Category (from 2022)V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    Type of documentpríspevok z podujatia
    Year2025
    article

    article

Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.