Number of the records: 1  

Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry

  1. Title statementMikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry
    Main entry-name Franta, Marek (Author)
    Another responsib. Harmatha, Ladislav, 1948- (Thesis advisor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Rosová, Alica (Thesis advisor)
    Issue dataBratislava : STU v Bratislave FEI, 2007
    FacultyFEI
    Phys.des.43 s
    Subj. Headings Mikroelektronika
    tenké vrstvy
    CMOS
    LanguageSlovak
    Document kindDDP - diplomová práca
    book

    book


Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.