Number of the records: 1
Nano imprint lithography -Issues at the de-molding process
Title statement Nano imprint lithography -Issues at the de-molding process / aut. Jaroslava Škriniarová, Jaroslav jr Kováč, František Uherek, Juraj Nevřela Main entry-name Škriniarová, Jaroslava, 1954- (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Another responsib. Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Uherek, František, 1954- Z1 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Nevřela, Juraj, 1989- Z3 (Author) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky In MNE 2018 / MNE 2018 conference. -- Copenhagen : Congress Department, 2018. -- online, Arch. no. PO-01-086 [2] s. Subj. Headings Nanoimprint lithography resist mr-UVCur21 defect adhesion Language English URL https://www.eiseverywhere.com/ehome/mne2018/775947/ Document kind RZB - článok zo zborníka Category BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...) Category (from 2022) O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka Year 2018 
article
Number of the records: 1