Number of the records: 1
Zr and Mo thin films with reduced residual impurities’ uptake under highvacuum conditions at room temperature
Title statement Zr and Mo thin films with reduced residual impurities’ uptake under highvacuum conditions at room temperature / aut. Marcel Meško, Jana Bohovičová, Frans Munnik, Jörg Grenzer, René Hübner, Ľubomír Čaplovič, Mária Čaplovičová, Ľubomír Vančo, Viliam Vretenár, Matthias Krause Main entry-name Meško, Marcel, 1977- (Author) - MTF Ústav materiálov Another responsib. Bohovičová, Jana, 1986- Z2 (Author) - MTF Ústav materiálov Munnik, Frans (Author) Grenzer, Jörg (Author) Hübner, René (Author) Čaplovič, Ľubomír, 1955- Z1 (Author) - MTF Ústav materiálov Čaplovičová, Mária, 1957- Z2 (Author) - Centrum STU pre nanodiagnostiku Vančo, Ľubomír, 1983- Z2 (Author) - Centrum STU pre nanodiagnostiku Vretenár, Viliam, 1976- Z2 (Author) - Centrum STU pre nanodiagnostiku Krause, Matthias (Author) Note rok vykazovania by bol 2018, ale už je neskoro!!! In 16th International Conference on Plasma Surface Engineering [478 s.]. -- 2018. -- S. 1 Subj. Headings refractory metallic thin films HiPIMS residual impurity Language English Document kind RZB - článok zo zborníka Category BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...) Category (from 2022) O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka 
article
Number of the records: 1