Zr and Mo thin films with reduced residual impurities’ uptake under highvacuum conditions at room temperature / aut. Marcel Meško, Jana Bohovičová, Frans Munnik, Jörg Grenzer, René Hübner, Ľubomír Čaplovič, Mária Čaplovičová, Ľubomír Vančo, Viliam Vretenár, Matthias Krause
Meško Marcel ; 061000  Bohovičová Jana ; 061000 Munnik Frans Grenzer Jörg Hübner René Čaplovič Ľubomír ; 061000 Čaplovičová Mária ; 902640 Vančo Ľubomír ; 902640 Vretenár Viliam ; 902640 Krause Matthias
16th International Conference on Plasma Surface Engineering : . S. 1
refractory metallic thin films HiPIMS residual impurity
článok zo zborníka
BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...)
O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka