Formation of nanocrystalline alloys after Cu ions implantation into amorphous precursor / aut. Jozef Sitek, Dominika Holková, Július Dekan, Milan Pavúk, Patrik Novák
Sitek Jozef ; 036000  Holková Dominika Dekan Július ; 036000 Pavúk Milan ; 036000 Novák Patrik ; 036000
Journal of Electrical Engineering : . Vol. 70, No. 2 (2019), s. 171-175
base stationamorphous alloys radiation damage nanocrystalline alloys Mössbauer spectroscopy cell equi-interference lines environmental propagation coefficient rings of base stations
http://iris.elf.stuba.sk/JEEEC/data/pdf/2_119-12.pdf
článok z periodika
ADN - 13/NOVÉ Vedecké práce v domácich časopisoch registrovaných v databázach Web of Science alebo SCOPUS
V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu