Počet záznamov: 1

Potentiostatic electrodeposition of Cu2O under light and dark for photoelectrochemical hydrogen generation applications

Údaje o názve	Potentiostatic electrodeposition of Cu2O under light and dark for photoelectrochemical hydrogen generation applications / aut. Miroslav Mikolášek, Peter Ondrejka, Filip Chymo, Patrik Novák, Ladislav Harmatha, Vlastimil Řeháček, Ivan Hotový
Záhlavie-meno	Mikolášek, Miroslav, 1983- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
Ďal.zodpovednosť	Ondrejka, Peter, 1995- Z4 (Autor) - FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky
	Chymo, Filip, 1992- Z3 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Novák, Patrik, 1987- Z2 (Autor) - FEI Ústav jadrového a fyzikálneho inžinierstva
	Harmatha, Ladislav, 1948- Z8 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Řeháček, Vlastimil, 1957- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Hotový, Ivan, 1957- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
In	Advances in Electrical and Electronic Engineering. -- ISSN 1336-1376. -- Vol. 16, No. 3 (2018), s. 367-373
Predmet.heslá	Cu2O
	electrodeposition under light
	hydrogen
	XRD
	water splitting
Jazyk dok.	angličtina
URL	http://advances.uniza.sk/index.php/AEEE/article/view/2749
Druh dok.	RBX - článok z periodika
Kategória	ADM - 13/NOVÉ Vedecké práce v zahraničných časopisoch registrovaných v databázach Web of Science alebo SCOPUS
Kategória od 2022	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
V databázach	WOS: 000454317100013 SCOPUS: 2-s2.0-85054097014
Rok	2018

článok

citace PRO

Počet záznamov: 1