Počet záznamov: 1  

Rigorous channel temperature analysis verified for InAlN/AlN/GaN HEMT

  1. Údaje o názveRigorous channel temperature analysis verified for InAlN/AlN/GaN HEMT / aut. Martin Florovič, Robert Szobolovszký, Jaroslav jr Kováč, Jaroslav Kováč, Aleš Chvála, Jean-Claude Jacquet, Sylvain Laurent Delage
    Záhlavie-meno Florovič, Martin, 1978- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Ďal.zodpovednosť Szobolovszký, Robert, 1990- Z3 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Kováč, Jaroslav, 1947- Z8 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Chvála, Aleš, 1981- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Jacquet, Jean-Claude Z6 (Autor)
    Delage, Sylvain Laurent Z6 (Autor)
    In Semiconductor Science and Technology. -- ISSN 0268-1242. -- Vol. 34, No. 6 (2019), Art. no. 065021 [7] s.
    Predmet.heslá InAlN
    GaN
    FET
    HEMT
    temperature profile
    dissipated power
    Jazyk dok.angličtina
    URLhttps://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6641/ab1737
    Druh dok.RBX - článok z periodika
    KategóriaADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
    Kategória od 2022V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    V databázach CC: 000468637400014
    Rok2019
    článok

    článok

Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.