Comparison of Al and Cu masks used for patterning boron-doped diamonds in oxygen plasma

Počet záznamov: 1

Údaje o názve	Comparison of Al and Cu masks used for patterning boron-doped diamonds in oxygen plasma / aut. Marián Marton, Mário Ritomský, Vlastimil Řeháček, Pavol Michniak, Miroslav Behúl, Patrik Novák, Ľubomír Vančo, Marian Vojs
Záhlavie-meno	Marton, Marián, 1980- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
Ďal.zodpovednosť	Ritomský, Mário, 1993- (Autor)
	Řeháček, Vlastimil, 1957- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Michniak, Pavol, 1986- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Behúl, Miroslav, 1989- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
	Novák, Patrik, 1987- Z2 (Autor) - FEI Ústav jadrového a fyzikálneho inžinierstva
	Vančo, Ľubomír, 1983- Z2 (Autor) - Centrum STU pre nanodiagnostiku
	Vojs, Marian, 1979- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
In	Journal of micromechanics and microengineering / Micromechanics and Microsystems Europe (MME 2018). -- ISSN 0960-1317. -- Vol. 29, No. 12 (2019), Art. no. 124004 [9] s.
Predmet.heslá	boron doped diamond
	micro-patterning
	plasma etching
Jazyk dok.	angličtina
URL	https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6439/ab4d6f
Druh dok.	RBX - článok z periodika
Kategória	ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
Kategória od 2022	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
V databázach
Rok	2019

článok

citace PRO

Počet záznamov: 1