Počet záznamov: 1
Optimization of fabrication process for SiON/SiOx films applicable as optical waveguides
Údaje o názve Optimization of fabrication process for SiON/SiOx films applicable as optical waveguides / aut. Ľuboš Podlucký, Andrej Vincze, Soňa Kováčová, Juraj Chlpík, Jaroslav jr Kováč, František Uherek Záhlavie-meno Podlucký, Ľuboš, 1995- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Ďal.zodpovednosť Vincze, Andrej, 1975- (Autor) Kováčová, Soňa, 1981- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Chlpík, Juraj, 1975- Z1 (Autor) - FEI Ústav jadrového a fyzikálneho inžinierstva Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Uherek, František, 1954- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky In Coatings. -- ISSN 2079-6412. -- Vol. 11, Iss. 5 (2021), Art. no. 574 [10] s. Predmet.heslá waveguide AFM SIMS PECVD silicon oxynitride Jazyk dok. angličtina URL https://www.mdpi.com/2079-6412/11/5/574 Druh dok. RBX - článok z periodika Kategória ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch Kategória od 2022 V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu V databázach CC: 000653720600001
WOS: 000653720600001
DOI: 10.3390/coatings11050574
SCOPUS: 2-s2.0-85106677600Rok 2021 článok
Počet záznamov: 1