Počet záznamov: 1  

Optimization of fabrication process for SiON/SiOx films applicable as optical waveguides

  1. Údaje o názveOptimization of fabrication process for SiON/SiOx films applicable as optical waveguides / aut. Ľuboš Podlucký, Andrej Vincze, Soňa Kováčová, Juraj Chlpík, Jaroslav jr Kováč, František Uherek
    Záhlavie-meno Podlucký, Ľuboš, 1995- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Ďal.zodpovednosť Vincze, Andrej, 1975- (Autor)
    Kováčová, Soňa, 1981- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Chlpík, Juraj, 1975- Z1 (Autor) - FEI Ústav jadrového a fyzikálneho inžinierstva
    Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Uherek, František, 1954- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    In Coatings. -- ISSN 2079-6412. -- Vol. 11, Iss. 5 (2021), Art. no. 574 [10] s.
    Predmet.heslá waveguide
    AFM
    SIMS
    PECVD
    silicon oxynitride
    Jazyk dok.angličtina
    URLhttps://www.mdpi.com/2079-6412/11/5/574
    Druh dok.RBX - článok z periodika
    KategóriaADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
    Kategória od 2022V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    V databázach CC: 000653720600001
    WOS: 000653720600001
    DOI: 10.3390/coatings11050574
    SCOPUS: 2-s2.0-85106677600
    Rok2021
    článok

    článok

Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.