Počet záznamov: 1
Fabrication of SiON photonic waveguides and analysis of ICP/RIE etch rates
Údaje o názve Fabrication of SiON photonic waveguides and analysis of ICP/RIE etch rates / aut. Michal Hausner, Ľuboš Podlucký, Soňa Kováčová, Jaroslav jr Kováč Záhlavie-meno Hausner, Michal, 1993- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Ďal.zodpovednosť Podlucký, Ľuboš, 1995- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Kováčová, Soňa, 1981- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky In ADEPT 2022 [274 s.] / Feiler, Martin. -- Žilina : Vydavateľstvo EDIS, 2022. -- ISBN 978-80-554-1884-1. -- S. 51-54 Predmet.heslá optical waveguide silicon oxynitride SEM AFM Surface profilometer Jazyk dok. angličtina Druh dok. RZB - článok zo zborníka Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Kategória od 2022 V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok z podujatia Rok 2022 
článok
Počet záznamov: 1