Effect of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides for Semiconductor Applications : A ToF-ERDA Characterization Study

Počet záznamov: 1

Údaje o názve	Effect of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides for Semiconductor Applications : A ToF-ERDA Characterization Study / aut. Filip Ferenčík, Jozef Dobrovodský, Zoltán Száraz, Pavol Noga
Záhlavie-meno	Ferenčík, Filip, 1996- (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
Ďal.zodpovednosť	Dobrovodský, Jozef, 1955- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
	Száraz, Zoltán, 1981- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
	Noga, Pavol, 1982- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
In	JVC - 19 [95 s.] / Krstulovič, Nikša. -- Zagreb, Croatia : Croatian Vacuum Society, 2024. -- ISBN 978-953-98154-5-3. -- S. 69
Jazyk dok.	angličtina
URL	https://jvc19.org/wp-content/uploads/files/Book_of_Abstracts_JVC-19_final.pdf
Druh dok.	RZB - článok zo zborníka
Kategória	BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...)
Kategória od 2022	O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka
Typ výstupu	abstrakt z podujatia
Rok	2024

článok

citace PRO

Počet záznamov: 1