- Impact of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary …
Počet záznamov: 1  

Impact of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides : A ToF-ERDA Characterization Study

  1. Údaje o názveImpact of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides : A ToF-ERDA Characterization Study aut. Filip Ferenčík, Jozef Dobrovodský, Edmund Dobročka, Pavol Noga
    Záhlavie-meno Ferenčík, Filip, 1996- (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Ďal.zodpovednosť Dobrovodský, Jozef, 1955- Z2 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    Dobročka, Edmund, 1955- Z5 (Autor)
    Noga, Pavol, 1982- Z1 (Autor) - MTF Ústav výskumu progresívnych technológií
    In Vacuum. -- ISSN 0042-207X. -- Vol. 240, (2025), s. 1-10
    Jazyk dok.angličtina
    URLhttps://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0042207X25004087?pes=vor&utm_source=scopus&getft_integrator=scopus
    Druh dok.RBX - článok z periodika
    KategóriaADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
    Kategória od 2022V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    V databázach
    Rok2025
    článok

    článok

Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.