Počet záznamov: 1
Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry
Údaje o názve Mikroštruktúra HfO2 a Hf1-xSixOy dielektrických tenkých vrstiev s vysokou permitivitou určených pre moderné CMOS štruktúry Záhlavie-meno Franta, Marek (Autor) Ďal.zodpovednosť Harmatha, Ladislav, 1948- (Školiteľ (konzultant)) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Rosová, Alica (Školiteľ (konzultant)) Vyd.údaje Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2007 Fakulta FEI Fyz.popis 43 s Predmet.heslá Mikroelektronika tenké vrstvy CMOS Jazyk dok. slovenčina Druh dok. DDP - diplomová práca 
kniha
Počet záznamov: 1