Počet záznamov: 1  

Aplikácia Al2O3 dielektrických vrstviev v technológii tranzistorov a heteropriechodom na báze InAlN/GaN

  1. Údaje o názveAplikácia Al2O3 dielektrických vrstviev v technológii tranzistorov a heteropriechodom na báze InAlN/GaN : č.ved.odb.: 26-13-9, dát. obhaj. 1.2.2010
    Záhlavie-meno Čičo, Karol (Autor)
    Ďal.zodpovednosť Kuzmík, Ján (Školiteľ (konzultant))
    Vyd.údajeBratislava : Elektrotechnický ústav SAV, 2009
    Fyz.popis107 s
    Predmet.heslá MOS štruktúry
    tenké vrstvy
    meranie dielektrických veličín
    tranzistory
    KrajinaSlovensko, Slovenská republika
    Jazyk dok.slovenčina
    Druh dok.DDZ - dizertačná práca
    kniha

    kniha

    Čiar.kódLokačná signatúraSignatúraLokáciaDislokáciaInfo
    284ED01264E*ZP-128Fakulta elektrotechniky a informatikyKnižnica FEI

Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.