- Structural characterization of twinning in β-Ga2O3 filament inclusion…
Počet záznamov: 1  

Structural characterization of twinning in β-Ga2O3 filament inclusions on Ga2O3 thin films epitaxially grown on sapphire substrates by MOCVD

  1. Údaje o názveStructural characterization of twinning in β-Ga2O3 filament inclusions on Ga2O3 thin films epitaxially grown on sapphire substrates by MOCVD / aut. Roshan Jeevan Chidambaram, Alica Rosová, Edmund Dobročka, Kristína Hušeková, Milan Ťapajna, Filip Gucmann
    Záhlavie-meno Chidambaram, Roshan Jeevan (Autor) - FEI Ústav jadrového a fyzikálneho inžinierstva
    Ďal.zodpovednosť Rosová, Alica (Autor)
    Dobročka, Edmund, 1955- Z5 (Autor)
    Hušeková, Kristína (Autor)
    Ťapajna, Milan, 1977- (Autor)
    Gucmann, Filip, 1987- (Autor)
    In ELITECH´25 [CD ROM, 208 s.] / Kozáková, Alena. -- Bratislava : Vydavateľstvo Spektrum STU, 2025. -- ISBN 978-80-227-5492-7. -- [5] s.
    Predmet.heslá Gallium oxide
    Epitaxy
    twinning
    m-plane sapphire
    Jazyk dok.angličtina
    Druh dok.RZB - článok zo zborníka
    KategóriaAFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    Kategória od 2022V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    Typ výstupupríspevok z podujatia
    Rok2025
    článok

    článok

Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.