Počet záznamov: 1

Zr and Mo thin films with reduced residual impurities’ uptake under highvacuum conditions at room temperature

Údaje o názve	Zr and Mo thin films with reduced residual impurities’ uptake under highvacuum conditions at room temperature / aut. Marcel Meško, Jana Bohovičová, Frans Munnik, Jörg Grenzer, René Hübner, Ľubomír Čaplovič, Mária Čaplovičová, Ľubomír Vančo, Viliam Vretenár, Matthias Krause
Záhlavie-meno	Meško, Marcel, 1977- (Autor) - MTF Ústav materiálov
Ďal.zodpovednosť	Bohovičová, Jana, 1986- Z2 (Autor) - MTF Ústav materiálov
	Munnik, Frans (Autor)
	Grenzer, Jörg (Autor)
	Hübner, René (Autor)
	Čaplovič, Ľubomír, 1955- Z1 (Autor) - MTF Ústav materiálov
	Čaplovičová, Mária, 1957- Z2 (Autor) - Centrum STU pre nanodiagnostiku
	Vančo, Ľubomír, 1983- Z2 (Autor) - Centrum STU pre nanodiagnostiku
	Vretenár, Viliam, 1976- Z2 (Autor) - Centrum STU pre nanodiagnostiku
	Krause, Matthias (Autor)
Poznámky	rok vykazovania by bol 2018, ale už je neskoro!!!
In	16th International Conference on Plasma Surface Engineering [478 s.]. -- 2018. -- S. 1
Predmet.heslá	refractory metallic thin films
	HiPIMS
	residual impurity
Jazyk dok.	angličtina
Druh dok.	RZB - článok zo zborníka
Kategória	BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...)
Kategória od 2022	O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka

článok

citace PRO

Počet záznamov: 1