- Impact of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary …
Počet záznamov: 1  

Impact of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides : A ToF-ERDA Characterization Study

  1. SYS0115686
    LBL
      
    00000naa--22^^^^^-a-4500
    003
      
    SK-STU
    005
      
    20250627070833.8
    007
      
    ta
    008
      
    250602s^^^^-----------e------000-0-----d
    024
    7-
    $2 DOI $a 10.1016/j.vacuum.2025.114418
    024
    7-
    $2 SCOPUS $a 2-s2.0-105007455867
    024
    7-
    $2 WOS $a 001508389600001
    024
    7-
    $2 CC $a 001508389600001
    035
      
    $a biblio/1386213 $2 CREPC2
    040
      
    $a STU $b slo
    041
    0-
    $a eng $b eng
    100
    1-
    $7 stu_us_auth*0039864 $a Ferenčík, Filip, $d 1996- $u 067000 $4 aut $9 40 $r Z2 $U MTF Materiálovotechnologická fakulta $T MTF Ústav výskumu progresívnych technológií $X 85416 $U MN7000 $Y 87
    245
    10
    $a Impact of Sputtering Power on Low Concentration Impurities in Binary Oxides : A ToF-ERDA Characterization Study $c aut. Filip Ferenčík, Jozef Dobrovodský, Edmund Dobročka, Pavol Noga
    700
    1-
    $7 stu_us_auth*stu130168 $a Dobrovodský, Jozef, $d 1955- $u 067000 $r Z2 $4 aut $9 35 $U MTF Materiálovotechnologická fakulta $T MTF Ústav výskumu progresívnych technológií $X 41236 $U MN7000 $Y 87
    700
    1-
    $7 stu_us_auth*stu56407 $a Dobročka, Edmund, $d 1955- $r Z5 $4 aut $9 5 $X 2565
    700
    1-
    $7 stu_us_auth*stu57324 $a Noga, Pavol, $d 1982- $u 067000 $r Z1 $4 aut $9 20 $U MTF Materiálovotechnologická fakulta $T MTF Ústav výskumu progresívnych technológií $X 10084 $U MN7000 $Y 87
    773
    0-
    $w stu_us_cat*0115685 $t Vacuum $x 0042-207X $7 nnas $g Vol. 240, (2025), s. 1-10
    856
    4-
    $u https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0042207X25004087?pes=vor&utm_source=scopus&getft_integrator=scopus
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.