Comparison of Al and Cu masks used for patterning boron-doped diamonds in oxygen plasma / aut. Marián Marton, Mário Ritomský, Vlastimil Řeháček, Pavol Michniak, Miroslav Behúl, Patrik Novák, Ľubomír Vančo, Marian Vojs
Marton Marián ; 033000  Ritomský Mário Řeháček Vlastimil ; 033000 Michniak Pavol ; 033000 Behúl Miroslav ; 033000 Novák Patrik ; 036000 Vančo Ľubomír ; 902640 Vojs Marian ; 033000
Journal of micromechanics and microengineering : . Vol. 29, No. 12 (2019), Art. no. 124004 [9] s.
boron doped diamond micro-patterning plasma etching
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6439/ab4d6f
článok z periodika
ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu