Košík

  Odznačiť vybrané:   0
  1. Influence of plasma etching conditions on the farbrication of high aspect ratio GaAs structures for radiation detectors / aut. Tibor Izsák, Štefan Haščík, Eva Kováčová, Marian Vojs, Bohumír Zaťko
    Izsák Tibor  Haščík Štefan Kováčová Eva Vojs Marian ; 033000 Zaťko Bohumír
    ADEPT 2025 : . S. 182-185
    ICP GaAs deep reactive ion etching
    článok zo zborníka
    AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    článok

    článok

  2. Kunsthalle - Nový Solivar, Prešov
    Tomková Beáta ; A  Pauliny Pavol (škol.) ; A3130
    Bratislava : STU v Bratislave FA, 2014
    FAR ; 05.06.2014 ; 153
    culture kunsthalle kultúra
    http://is.stuba.sk/zp/portal_zp.pl?podrobnosti=103858 https://opac.crzp.sk/?fn=detailBiblioForm&sid=026EAE7161CC97F10E2EAEFE06CA
    diplomová práca
    kniha

    kniha

  3. Spracovanie sekvencií transakcií pomocou modelov hlbokého učenia
    Nagy Imrich ; 070200  Ševcech Jakub ; 070200 (škol.)
    2019
    FIIT ; 13.06.2019 ; 9.2.5. softvérové inžinierstvo, 9.2.8. umelá inteligencia ; I-ISS2
    hlboké učenie neurónové siete neural networks
    http://is.stuba.sk/zp/portal_zp.pl?podrobnosti=145518
    diplomová práca
    kniha

    kniha

  4. Tematický termínelektromagnetická kompatibilita
    Druh súborupredmetové heslá
    Odkazy (1) - encyklopédia
    (18) - monografia
    (1) - príručka
    (2) - skriptá
    (1) - učebnica
    (20) - zborník
    (3) - diplomová práca
    (2) - dizertačná práca
    (2) - habilitačná práca
    (2) - elektronický textový údaj
    (4) - článok
    predmetové heslo

    predmetové heslo

  5. Tematický termínBezier curve
    Druh súborupredmetové heslá
    Odkazy (1) - dizertačná práca
    (2) - článok
    predmetové heslo

    predmetové heslo


  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.