Fabrication of SiON photonic waveguides and analysis of ICP/RIE etch rates / aut. Michal Hausner, Ľuboš Podlucký, Soňa Kováčová, Jaroslav jr Kováč
Hausner Michal ; 033000  Podlucký Ľuboš ; 033000 Kováčová Soňa ; 033000 Kováč Jaroslav jr. ; 033000
ADEPT 2022 : . S. 51-54
optical waveguide silicon oxynitride SEM AFM Surface profilometer
článok zo zborníka
AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka