Chemical Treatment of SiO2 and alpha-Al2O3 Substrates for HF CVD of Carbon Nanotubes
Vojačková Anna ; E210  Kadlečíková Magdaléna ; E030 Szabó P. Luptáková Viera Michalka Miroslav Ligás R.
SLONANO 2005 . s.60
článok zo zborníka
AFG - Abstrakty príspevkov zo zahraničných konferencií
V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka