Košík

  Odznačiť vybrané:   0
  1. Charakterizácia elektrofyzikálnych vlastností implantovaných štruktúr MOS s tenkými izolačnými vrstvami s vysokou permitivitou
    Kmeť Adam  Harmatha Ladislav (škol.) ; E030 Kováč Peter (škol.)
    Bratislava : STU v Bratislave FEI, 2007
    FEI ; . - 50 s
    Mikroelektronika MOS štruktúry elektrofyzikálne vlastnosti izolačné vrstvy
    diplomová práca
    kniha

    kniha


  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.