Influence of initial microstructure and impurities on Cu room-temperature recrystallization (self-annealing)
Stangl M.  Lipták Milan ; M130 Fletcher A.J Acker J. Thomas J. Wendrock Horst Oswald S. Wetzig Klaus
Microelectronic Engineering . Vol. 85, Iss. 3 (2008), s.534-541
článok z periodika
ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu