Výsledky vyhľadávania
- Substrate influence on the optimization of the exposure dose for the HSQ XR 1541 resist / aut. Jaroslava Škriniarová, Robert Andok, Pavol Nemec, J Baumgartner
Škriniarová Jaroslava ; 033000 Andok Robert Nemec Pavol ; 033000 Baumgartner J.
ADEPT 2019 : . S. 219-222
HSQ XR 1541 resist E-Beam Lithography GaAs substrate Si substrate
článok zo zborníka
AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
článok
- Simple route to micro and nanopartterning - nano imprint lithography / aut. Jaroslava Škriniarová, Juraj Nevřela, J Baumgartner
Škriniarová Jaroslava ; 033000 Nevřela Juraj ; 033000 Baumgartner J.
ADEPT 2018 : . S. 45-48
Nanoimprint lithography mr-UVCur21-photo-curable imprint resist
článok zo zborníka
AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníkačlánok