Optimization of SiON/SiOx structures fabrication process for optical waveguides / aut. Ľuboš Podlucký, Marian Vojs, Jozef Chovanec, Vlastimil Řeháček, Jaroslav Kováč, František Uherek
Podlucký Ľuboš ; 033000  Vojs Marian ; 033000 Chovan Jozef Řeháček Vlastimil ; 033000 Kováč Jaroslav jr. ; 033000 Uherek František ; 033000
Radioelektronika 2020 : . S. 186-190
waveguide IMWP ICP/RIE PECVD silicon oxynitride
článok zo zborníka
AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka