Effect of etching time in hydrofluoric acid on the structure and morphology of n-type porous silicon / aut. Martin Kopáni, Milan Mikula, Daniel Kosnáč, Jaroslav Kováč, Michal Trnka, Ján Greguš, Monika Jerigová, Matej Jergel, Erik Vavrinský, Silvia Bačová, Peter Zitto, Štefan Polák, Emil Pinčík
Kopáni Martin  Mikula Milan ; 049160 Kosnáč Daniel ; 034000 Kováč Jaroslav ; 033000 Trnka Michal Greguš Ján Jerigová Monika Jergel Matej Vavrinský Erik ; 033000 Bačová Silvia Zitto Peter Polák Štefan Pinčík Emil
Applied Surface Science . Vol. 532, (2020), Art. no. 147463 [7] s.
porous silicon N-type silicon FT IR spectroscopy Hydrofluoric acid Methanol X-ray photoelectron spectroscopy
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0169433220322200
článok z periodika
ADC - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch
V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu