Potentiostatic electrodeposition of Cu2O under light and dark for photoelectrochemical hydrogen generation applications / aut. Miroslav Mikolášek, Peter Ondrejka, Filip Chymo, Patrik Novák, Ladislav Harmatha, Vlastimil Řeháček, Ivan Hotový
Mikolášek Miroslav ; 033000  Ondrejka Peter ; 030000 Chymo Filip ; 033000 Novák Patrik ; 036000 Harmatha Ladislav ; 033000 Řeháček Vlastimil ; 033000 Hotový Ivan ; 033000
Advances in Electrical and Electronic Engineering : . Vol. 16, No. 3 (2018), s. 367-373
Cu2O electrodeposition under light hydrogen XRD water splitting
http://advances.uniza.sk/index.php/AEEE/article/view/2749
článok z periodika
ADM - 13/NOVÉ Vedecké práce v zahraničných časopisoch registrovaných v databázach Web of Science alebo SCOPUS
V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu