Počet záznamov: 1
Nano imprint lithography -Issues at the de-molding process
Údaje o názve Nano imprint lithography -Issues at the de-molding process / aut. Jaroslava Škriniarová, Jaroslav jr Kováč, František Uherek, Juraj Nevřela Záhlavie-meno Škriniarová, Jaroslava, 1954- (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Ďal.zodpovednosť Kováč, Jaroslav jr. 1977- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Uherek, František, 1954- Z1 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Nevřela, Juraj, 1989- Z3 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky In MNE 2018 / MNE 2018 conference. -- Copenhagen : Congress Department, 2018. -- online, Arch. no. PO-01-086 [2] s. Predmet.heslá Nanoimprint lithography resist mr-UVCur21 defect adhesion Jazyk dok. angličtina URL https://www.eiseverywhere.com/ehome/mne2018/775947/ Druh dok. RZB - článok zo zborníka Kategória BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...) Kategória od 2022 O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka Rok 2018 
článok
Počet záznamov: 1