Počet záznamov: 1
Problems concerning the demolding process of nano imprint lithography
Údaje o názve Problems concerning the demolding process of nano imprint lithography / aut. Jaroslava Škriniarová, Robert Andok, Magdaléna Kadlečíková, Juraj Nevřela Záhlavie-meno Škriniarová, Jaroslava, 1954- (Autor) Ďal.zodpovednosť Andok, Robert Z5 (Autor) Kadlečíková, Magdaléna, 1956- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky Nevřela, Juraj, 1989- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky In APCOM 2022 [364 s.] / International conference on applied physics of condensed matter. -- Melville : AIP Publishing, 2023. -- ISBN 978-0-7354-4479-9. -- Art. no. 030011 [5] s. Jazyk dok. angličtina Druh dok. RZB - článok zo zborníka Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Kategória od 2022 V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok z podujatia V databázach WOS: 001055613400048
DOI: 10.1063/5.0136329
SCOPUS: 2-s2.0-85160252763Rok 2023 článok
Počet záznamov: 1