- Problems concerning the demolding process of nano imprint lithography
Počet záznamov: 1  

Problems concerning the demolding process of nano imprint lithography

  1. Údaje o názveProblems concerning the demolding process of nano imprint lithography / aut. Jaroslava Škriniarová, Robert Andok, Magdaléna Kadlečíková, Juraj Nevřela
    Záhlavie-meno Škriniarová, Jaroslava, 1954- (Autor)
    Ďal.zodpovednosť Andok, Robert Z5 (Autor)
    Kadlečíková, Magdaléna, 1956- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    Nevřela, Juraj, 1989- Z2 (Autor) - FEI Ústav elektroniky a fotoniky
    In APCOM 2022 [364 s.] / International conference on applied physics of condensed matter. -- Melville : AIP Publishing, 2023. -- ISBN 978-0-7354-4479-9. -- Art. no. 030011 [5] s.
    Jazyk dok.angličtina
    Druh dok.RZB - článok zo zborníka
    KategóriaAFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
    Kategória od 2022V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    Typ výstupupríspevok z podujatia
    V databázach
    Rok2023
    článok

    článok

Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.