Počet záznamov: 1
Nano imprint lithography -Issues at the de-molding process
SYS 0068126 LBL 00000naa--22^^^^^-a-4500 003 SK-STU 005 20240223140528.0 007 ta 008 181026s^^^^-----------e------000-0-----d 035 $a biblio/86628 $2 CREPC2 040 $a STU $b slo 041 0-
$a eng 100 1-
$7 stu_us_auth*stu9832 $a Škriniarová, Jaroslava, $d 1954- $u 033000 $4 aut $9 40 $r Z2 $U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky $T FEI Ústav elektroniky a fotoniky $X 1866 $U E030 $Y 549 245 10
$a Nano imprint lithography -Issues at the de-molding process / $c aut. Jaroslava Škriniarová, Jaroslav jr Kováč, František Uherek, Juraj Nevřela 650 04
$7 stu_us_auth*0032896 $a Nanoimprint lithography 650 04
$7 stu_us_auth*0034738 $a resist mr-UVCur21 650 04
$7 stu_us_auth*stus25196 $a defect 650 04
$7 stu_us_auth*stus18852 $a adhesion 700 1-
$7 stu_us_auth*stu42398 $a Kováč, Jaroslav jr. $d 1977- $u 033000 $r Z1 $4 aut $9 20 $U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky $T FEI Ústav elektroniky a fotoniky $X 42526 $U E030 $Y 549 700 1-
$7 stu_us_auth*stu1482 $a Uherek, František, $d 1954- $u 033000 $r Z1 $4 aut $9 20 $U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky $T FEI Ústav elektroniky a fotoniky $X 1937 $U E030 $Y 549 700 1-
$7 stu_us_auth*stu142851 $a Nevřela, Juraj, $d 1989- $u 033000 $r Z3 $4 aut $9 20 $U FEI Fakulta elektrotechniky a informatiky $T FEI Ústav elektroniky a fotoniky $X 70100 $U E030 $Y 549 773 0-
$w stu_us_cat*0068125 $t MNE 2018 $7 m2am $a MNE 2018 conference $d Copenhagen : Congress Department, 2018 $g online, Arch. no. PO-01-086 [2] s. 856 4-
$u https://www.eiseverywhere.com/ehome/mne2018/775947/
Počet záznamov: 1